為追趕臺(tái)積電跳過(guò)4nm工藝，傳三星電子已修改芯片工藝路線(xiàn)圖

  ICC訊 7月2日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，在芯片工藝方面，為蘋(píng)果等公司代工的臺(tái)積電，近幾年走在行業(yè)的前列，他們的7nm和5nm工藝都是率先投產(chǎn)，良品率也相當(dāng)可觀(guān)。曾為蘋(píng)果代工A系列芯片的三星電子，近幾年在芯片工藝方面雖然不及臺(tái)積電，獲得的芯片代工訂單也不及臺(tái)積電，但仍是唯一能在工藝上跟上臺(tái)積電節(jié)奏的廠(chǎng)商。

  臺(tái)積電和三星電子的芯片工藝，目前都已到了5nm，臺(tái)積電的5nm工藝是已經(jīng)大規(guī)模量產(chǎn)，三星電子投資81億美元的新5nm芯片工藝生產(chǎn)線(xiàn)，今年也已經(jīng)開(kāi)始建設(shè)。

  在提升到5nm之后，三星電子也會(huì)繼續(xù)研發(fā)更先進(jìn)的芯片工藝。外媒最新援引產(chǎn)業(yè)鏈人士透露的消息報(bào)道稱(chēng)，三星電子已對(duì)芯片工藝路線(xiàn)圖進(jìn)行了調(diào)整，將跳過(guò)4nm工藝，由5nm直接上升到3nm。

  不過(guò)，外媒在報(bào)道中并未提及，跳過(guò)4nm工藝之后，三星的3nm工藝會(huì)在何時(shí)大規(guī)模量產(chǎn)。

  三星電子芯片代工競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電的3nm工藝，是在多年前就已開(kāi)始謀劃，計(jì)劃2021年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)，2022年上半年大規(guī)模量產(chǎn)。在6月初的報(bào)道中，外媒稱(chēng)臺(tái)積電已經(jīng)開(kāi)始3nm工藝的生產(chǎn)線(xiàn)，早于此前的預(yù)期。