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打破日本壟斷 三星與韓國廠商合作開發(fā)成功EUV光刻膠

摘要:三星與韓國半導(dǎo)體廠商東進(jìn)合作開發(fā)成功EUV光刻膠,已經(jīng)通過驗證。

  ICC訊  EUV光刻工藝除了需要EUV光刻機之外,也需要配套的EUV光刻膠,目前這一市場也主要被日本廠商壟斷,現(xiàn)在三星與韓國半導(dǎo)體廠商東進(jìn)合作開發(fā)成功EUV光刻膠,已經(jīng)通過驗證。

  東進(jìn)半導(dǎo)體19日宣布,近期通過了三星電子的EUV PR(光刻膠)可靠性測試。

  消息人士稱,東進(jìn)半導(dǎo)體在其位于京畿道華城的工廠開發(fā)了EUV PR,并在三星電子華城 EUV生產(chǎn)線上對其進(jìn)行了測試,并已通過可靠性測試。

  PR,也稱為光刻膠,是半導(dǎo)體曝光工藝中的關(guān)鍵材料。

  它應(yīng)用于芯片上,當(dāng)用半導(dǎo)體曝光設(shè)備照射光時,會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并改變物理性質(zhì),通過用顯影劑沖洗掉PR來繪制微電路,只留下必要的部分。

  2019年,日本與韓國爆發(fā)爭議之后曾經(jīng)限制三種重要的半導(dǎo)體材料對韓國的出口,EUV光刻膠就是其中之一,為此韓國公司也加快了EUV光刻膠的研發(fā)。

  雖然已經(jīng)通過了測試,不過三星是否會在EUV生產(chǎn)線上立即使用東進(jìn)半導(dǎo)體的EUV光刻膠還不確定,三星東進(jìn)拒絕表態(tài)。

內(nèi)容來自:中國半導(dǎo)體論壇
本文地址:http://m.odinmetals.com//Site/CN/News/2021/12/22/20211222063249296288.htm 轉(zhuǎn)載請保留文章出處
關(guān)鍵字: 三星 東進(jìn) EUV 光刻膠
文章標(biāo)題:打破日本壟斷 三星與韓國廠商合作開發(fā)成功EUV光刻膠
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