ICC訊 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在 5nm 工藝大規(guī)模投產(chǎn)之后,臺(tái)積電將投產(chǎn)的下一代重大芯片制程工藝,就將是 3nm,目前正在按計(jì)劃推進(jìn),計(jì)劃在 2021 年開(kāi)始風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),2022 年下半年大規(guī)模投產(chǎn)。
雖然現(xiàn)在距離臺(tái)積電 3nm 工藝大規(guī)模投產(chǎn)還有近兩年的時(shí)間,但已有眾多廠商在關(guān)注臺(tái)積電的這一先進(jìn)制程工藝。
外媒的報(bào)道顯示,臺(tái)積電 3nm 工藝準(zhǔn)備了 4 波產(chǎn)能,其中首波產(chǎn)能中的大部分,將留給他們的大客戶(hù)蘋(píng)果。
臺(tái)積電 3nm 工藝首波產(chǎn)能中的大部分留給蘋(píng)果,其實(shí)也在意料之中。蘋(píng)果是臺(tái)積電的大客戶(hù),從 2016 年 iPhone 7 系列所搭載的 A10 處理器開(kāi)始,蘋(píng)果的 A 系列處理器就全部交由臺(tái)積電獨(dú)家代工,臺(tái)積電能有今天的規(guī)模,除了他們領(lǐng)先的技術(shù),還有蘋(píng)果大量訂單的功勞。
3nm 工藝是 5nm 之后一次完整的工藝節(jié)點(diǎn)跨越,將使芯片的性能得到明顯提升。在今年一季度和二季度的財(cái)報(bào)分析師會(huì)議上,臺(tái)積電 CEO 魏哲家都有談到 3nm 工藝,他透露同 5nm 工藝相比,3nm 工藝將使晶體管的密度提升 70%,芯片的速度提升 10% 到 15%,能效提升 25% 到 30%。