濟(jì)南晶正攜光電晶體薄膜材料亮相慕尼黑上海光博會(huì)

  ICC訊 第十七屆慕尼黑上海光博會(huì)于2023年7月11-13日在上海國(guó)家會(huì)展中心如火如荼開展，濟(jì)南晶正電子科技有限公司攜光電晶體薄膜材料亮相6.1H B135展臺(tái)，期待客戶蒞臨展位交流指導(dǎo)。

  本次展會(huì)，濟(jì)南晶正推出了8寸光學(xué)級(jí)鈮酸鋰薄膜，也是業(yè)內(nèi)首家將8英寸X軸鈮酸鋰晶體制成鈮酸鋰薄膜的企業(yè)，目前市面上主要為3-6英寸型號(hào)的鈮酸鋰薄膜，而光電子器件集成依賴的微加工工藝主流產(chǎn)線為8英寸半導(dǎo)體產(chǎn)線，此次突破將進(jìn)一步為大規(guī)模光子集成創(chuàng)造條件。

  未來鈮酸鋰薄膜在骨干網(wǎng)相干市場(chǎng)、數(shù)通800G、1.6T光模塊中均具備廣闊的應(yīng)用前景，鈮酸鋰薄膜主要被做成高速電光調(diào)制器，市場(chǎng)有望達(dá)到百億級(jí)別。與硅光調(diào)制器和磷化銦調(diào)制器相比，薄膜鈮酸鋰調(diào)制器具有高帶寬、低插損、低功耗、高可靠性及高消光比等優(yōu)點(diǎn)。在具備優(yōu)秀光學(xué)性能的同時(shí)，還能做到小型化，可滿足相干光模塊、數(shù)通光模塊日漸小型化的要求，并且我國(guó)在晶體材料、晶體薄膜、加工手段、器件、系統(tǒng)都是自主可控 。目前國(guó)內(nèi)多家廠商已發(fā)布數(shù)通800G薄膜鈮酸鋰方案光模塊，下游客戶已測(cè)試相應(yīng)產(chǎn)品，未來1.6T光模塊的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)將更加明顯。

  產(chǎn)品介紹：

  300-900nm 鈮酸鋰單晶薄膜

  薄膜用來制作高速電光調(diào)制器、高性能聲波濾波器等高性能器件，應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心、長(zhǎng)距離數(shù)據(jù)傳輸、手機(jī)、基站等。

  鈮酸鋰薄膜調(diào)制器優(yōu)勢(shì)：

  體積小，穩(wěn)定性好，帶寬大，傳輸速率高，功耗低，CMOS 驅(qū)動(dòng)電壓兼容，可實(shí)現(xiàn)光集成。

  300-900nm 鉭酸鋰單晶薄膜

  產(chǎn)品可應(yīng)用于高性能濾波器(SAW)，應(yīng)用于手機(jī)及無(wú)線通信領(lǐng)域。

  薄膜濾波器的Q值高，插入損耗低，陡直度好,Fs穩(wěn)定性好， TCF小，散熱性好，制造成本低。

  關(guān)于濟(jì)南晶正電子科技有限公司

  濟(jì)南晶正電子科技有限公司是一家集光電晶體薄膜材料研發(fā)、生產(chǎn)及銷售于一體的高新技術(shù)企業(yè)。

  公司擁有產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)基地以及中美晶體薄膜材料合作研究中心，由海歸學(xué)者領(lǐng)軍研發(fā)，在國(guó)際上率先開發(fā)出300-700納米厚度鈮酸鋰單晶薄膜材料產(chǎn)品，可用于制作調(diào)制器、濾波器及高密度信息存儲(chǔ)器件等，在壓電、鐵電、紅外探測(cè)等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用前景，可極大提高光通訊系統(tǒng)的傳輸能力和集成度，能夠帶來巨大經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益。