ICC訊 近日,光迅科技連中三標,在光放大、光保護領域斬獲三項第一。
作為光放大、光保護領域領先的解決方案提供商,光迅科技堅持走自主創(chuàng)新之路,牽頭制定了多項國家標準及行業(yè)標準,通過持續(xù)不斷的技術積累,已建成半導體材料生長、半導體工藝與平面光波導技術、光學設計與封裝技術、熱分析與機械設計技術、高頻仿真與設計技術、軟件控制與子系統(tǒng)開發(fā)六大核心技術工藝平臺,具備了從芯片到器件、模塊、子系統(tǒng)全系列產(chǎn)品的垂直整合能力,基于此研發(fā)的光放大、光保護產(chǎn)品具有技術領先性,質(zhì)量可靠,深度契合客戶需求。
項目的連續(xù)中標既是客戶對光迅科技綜合實力的充分肯定,也在年度沖刺的關鍵時刻彰顯出了光迅科技強勁的市場拓展勢頭。
展望未來,光迅科技將一如既往以客戶為中心,積極投入光芯片、光器件、光網(wǎng)絡技術創(chuàng)新,共創(chuàng)光網(wǎng)世界無限未來。