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Intel芯片欲提升30% 5年內趕超臺積電!

摘要:Intel今年在3月份就已經宣布IDM 2.0戰(zhàn)略,芯片擴產已經迫在眉睫,據悉該計劃將在美國、歐洲、亞洲等地區(qū)建廠,以此來提升自己的產能目標。

      ICC訊 Intel今年在3月份就已經宣布IDM 2.0戰(zhàn)略,芯片擴產已經迫在眉睫,據悉該計劃將在美國、歐洲、亞洲等地區(qū)建廠,以此來提升自己的產能目標。

      業(yè)內資深人士預估,Intel此番大舉擴張,預計在5年內,也就是2026年的時候產能將增長30%以上,有望追趕臺積電。

內容來自:中關村在線
本文地址:http://m.odinmetals.com//Site/CN/News/2021/12/28/20211228074245602338.htm 轉載請保留文章出處
關鍵字: Intel 芯片 臺積電
文章標題:Intel芯片欲提升30% 5年內趕超臺積電!
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