陜西先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)全面啟用

  ICC訊 陜西光電子先導(dǎo)院先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)在西安全面啟用。該平臺(tái)具備光子芯片制程中的光刻、刻蝕、蒸鍍等多項(xiàng)核心工藝，將為光子產(chǎn)業(yè)項(xiàng)目提供產(chǎn)品研發(fā)、中試、檢測等全流程技術(shù)服務(wù)，為光子產(chǎn)業(yè)各類創(chuàng)新主體打通從產(chǎn)品研發(fā)到市場化批量供貨的完整鏈條。

  據(jù)了解，先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺(tái)占地30畝，建有中試車間、中試大樓、綜合樓和動(dòng)力站等研發(fā)和中試配套設(shè)施，總建筑面積約30000平方米，潔凈廠房3000平方米，一期專業(yè)設(shè)備100余臺(tái)(套)，具備以GaAs(砷化鎵)、GaN(氮化鎵)為主線，圍繞6英寸化合物芯片工藝服務(wù)能力的柔性中試平臺(tái)，以技術(shù)服務(wù)與工程代工相結(jié)合的形式，為光子產(chǎn)業(yè)孵化項(xiàng)目提供產(chǎn)品研發(fā)、中試、檢測等全流程技術(shù)服務(wù)。

  此外，該創(chuàng)新平臺(tái)將有效解決第三代化合物半導(dǎo)體芯片制造的外延生長與制程等關(guān)鍵問題，為光電芯片、功率器件、射頻器件等芯片設(shè)計(jì)企業(yè)、高校、科研院所提供外延生長、光刻、刻蝕、薄膜制備、清洗、減薄、拋光、劃片等芯片制造全流程服務(wù)。

  光電子先導(dǎo)院稱，該平臺(tái)的啟用標(biāo)志著陜西向打造具有全球影響力的光子產(chǎn)業(yè)生態(tài)高地的戰(zhàn)略目標(biāo)又邁出了堅(jiān)實(shí)的一步，將吸引更多光子產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新要素匯聚陜西，培育一批具有先發(fā)優(yōu)勢和全球競爭力的光子產(chǎn)業(yè)企業(yè)，推動(dòng)光子產(chǎn)業(yè)向集群化、規(guī)模化、高產(chǎn)值化發(fā)展。目前，陜西光電子先導(dǎo)院已培育和聚集了近百家光子產(chǎn)業(yè)企業(yè)，入駐光電子領(lǐng)域企業(yè)30余家。