用戶名: 密碼: 驗(yàn)證碼:

革命性技術(shù) 內(nèi)存芯片將無需使用貴出天際的EUV光刻機(jī)

訊石光通訊網(wǎng)   發(fā)布時(shí)間:2022/12/21 15:27:27  編者:iccsz
摘要：在1α，1β，1γ這三代中，三星在1α上就開始用EUV光刻工藝，但是代價(jià)就是成本高。而美光前不久搶先宣布的量產(chǎn)1β內(nèi)存芯片則沒有使用EUV工藝，避免了昂貴的光刻機(jī)。

  ICC訊 內(nèi)存工藝進(jìn)入20nm節(jié)點(diǎn)之后，廠商的命名已經(jīng)發(fā)生了變化，都被稱為10nm級(jí)內(nèi)存，但有更細(xì)節(jié)的劃分，之前是1x、1y 和 1z三代，后面是1α，1β，1γ。

  在1α，1β，1γ這三代中，三星在1α上就開始用EUV光刻工藝，但是代價(jià)就是成本高。而美光前不久搶先宣布的量產(chǎn)1β內(nèi)存芯片則沒有使用EUV工藝，避免了昂貴的光刻機(jī)。

  不使用EUV光刻，美光在1β內(nèi)存上使用的主要是第二代HKMG工藝、ArF浸液多重光刻等工藝，實(shí)現(xiàn)了35%的存儲(chǔ)密度提升，同時(shí)省電15%。

  1β之后還有1γ工藝，估計(jì)會(huì)是12nm級(jí)別，制造難度更大，但美光依然沒有明確是否使用EUV光刻機(jī)。而如今的1β內(nèi)存，工藝水平相當(dāng)于13nm。

內(nèi)容來自：中關(guān)村在線
本文地址：http://m.odinmetals.com//Site/CN/News/2023/01/03/20230103072845808924.htm 轉(zhuǎn)載請(qǐng)保留文章出處
關(guān)鍵字: 芯片 EUV 光刻機(jī)
文章標(biāo)題:革命性技術(shù) 內(nèi)存芯片將無需使用貴出天際的EUV光刻機(jī)
【加入收藏夾】  【推薦給好友】 
1、凡本網(wǎng)注明“來源：訊石光通訊網(wǎng)”及標(biāo)有原創(chuàng)的所有作品，版權(quán)均屬于訊石光通訊網(wǎng)。未經(jīng)允許禁止轉(zhuǎn)載、摘編及鏡像，違者必究。對(duì)于經(jīng)過授權(quán)可以轉(zhuǎn)載我方內(nèi)容的單位，也必須保持轉(zhuǎn)載文章、圖像、音視頻的完整性，并完整標(biāo)注作者信息和本站來源。
2、免責(zé)聲明，凡本網(wǎng)注明“來源：XXX（非訊石光通訊網(wǎng)）”的作品，均為轉(zhuǎn)載自其它媒體，轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé)。因可能存在第三方轉(zhuǎn)載無法確定原網(wǎng)地址，若作品內(nèi)容、版權(quán)爭議和其它問題，請(qǐng)聯(lián)系本網(wǎng)，將第一時(shí)間刪除。
聯(lián)系方式：訊石光通訊網(wǎng)新聞中心　電話：0755-82960080-168   Right