力爭2027年量產(chǎn)2nm！日本接收首臺EUV光刻機：重71噸、四階段安裝

  ICC訊 據(jù)報道，日本初創(chuàng)晶圓代工廠Rapidus已成功接收其訂購的首臺ASML EUV光刻機，這是日本境內(nèi)首次引入量產(chǎn)用EUV光刻設備。

  Rapidus也成為日本首家擁有EUV光刻機的公司，由于EUV系統(tǒng)體積龐大，完整設備重達71噸，將分四階段進行安裝，預計本月底在晶圓廠內(nèi)完成。

  Rapidus首席執(zhí)行官小池淳義在新千歲機場舉行的典禮上表示，公司將從北海道和日本向全球提供最先進半導體。

  Rapidus計劃2025年春季完成2nm芯片原型開發(fā)，并在2027年實現(xiàn)量產(chǎn)，相比之下臺積電則計劃2025年開始量產(chǎn)2nm芯片。

  ASML是目前全球唯一的EUV光刻機供應商，每臺設備成本約1.8億美元以上，去年全球僅交貨了42臺。

  資料顯示，日本曾在1980年代占據(jù)全球超過50%的半導體市場份額，但到2000年代已退出先進邏輯制程芯片的競爭。

  Rapidus的成立旨在重振日本先進芯片的生產(chǎn)能力，降低對進口芯片的依賴，日本政府目標到2030年實現(xiàn)國內(nèi)半導體銷售額達15萬億日元，達到2020年的三倍。