引領(lǐng)芯間光互聯(lián)時(shí)代,九峰山實(shí)驗(yàn)室實(shí)現(xiàn)異質(zhì)集成“芯片出光”

訊石光通訊網(wǎng) 2024/10/9 9:04:46

  九峰山實(shí)驗(yàn)室實(shí)現(xiàn)異質(zhì)集成芯片出光

  九峰山實(shí)驗(yàn)室再次在硅光子集成領(lǐng)域取得里程碑式突破性進(jìn)展。

  2024年9月,實(shí)驗(yàn)室成功點(diǎn)亮集成到硅基芯片內(nèi)部的激光光源,這也是該項(xiàng)技術(shù)在國(guó)內(nèi)的首次成功實(shí)現(xiàn)。此項(xiàng)成果采用九峰山實(shí)驗(yàn)室自研異質(zhì)集成技術(shù),經(jīng)過(guò)復(fù)雜工藝過(guò)程,在8寸SOI晶圓內(nèi)部完成了磷化銦激光器的工藝集成。該技術(shù)被業(yè)內(nèi)稱為“芯片出光”,它使用傳輸性能更好的光信號(hào)替代電信號(hào)進(jìn)行傳輸,是顛覆芯片間信號(hào)數(shù)據(jù)傳輸?shù)闹匾侄?,核心目的是解決當(dāng)前芯間電信號(hào)已接近物理極限的問(wèn)題。對(duì)數(shù)據(jù)中心、算力中心、CPU/GPU芯片、AI芯片等領(lǐng)域?qū)⑵鸬礁镄滦酝苿?dòng)作用。

顯微鏡下,片上光源芯片的光輸出視頻

  十年追夢(mèng) 大尺寸硅晶圓內(nèi)點(diǎn)亮激光光源

  基于硅基光電子集成的片上光互連,被認(rèn)為是在后摩爾時(shí)代突破集成電路技術(shù)發(fā)展所面臨的功耗、帶寬和延時(shí)等瓶頸的理想方案。而業(yè)界目前對(duì)硅光全集成平臺(tái)的開發(fā)最難的挑戰(zhàn)在于對(duì)硅光芯片的“心臟”,即能高效率發(fā)光的硅基片上光源的開發(fā)和集成上。該技術(shù)是我國(guó)光電子領(lǐng)域在國(guó)際上僅剩不多的空白環(huán)節(jié)。

  九峰山實(shí)驗(yàn)室硅光工藝團(tuán)隊(duì)與合作伙伴協(xié)同攻關(guān),在8寸硅光晶圓上異質(zhì)鍵合III-V族激光器材料外延晶粒,再進(jìn)行CMOS兼容性的片上器件制成工藝,成功解決了III-V材料結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與生長(zhǎng)、材料與晶圓鍵合良率低,及異質(zhì)集成晶圓片上圖形化與刻蝕控制等難點(diǎn)。經(jīng)過(guò)近十年的追趕攻關(guān),終成功點(diǎn)亮片內(nèi)激光,實(shí)現(xiàn)“芯片出光”。

九峰山實(shí)驗(yàn)室8寸硅基片上光源芯片晶圓

  相較于傳統(tǒng)的分立封裝外置光源和FC微組裝光源,九峰山實(shí)驗(yàn)室片上光源技術(shù)能有效解決傳統(tǒng)硅光芯片耦合效率不夠高、對(duì)準(zhǔn)調(diào)節(jié)時(shí)間長(zhǎng)、對(duì)準(zhǔn)精度不夠好的工藝問(wèn)題,突破了制作成本高、尺寸大、難以大規(guī)模集成等量產(chǎn)瓶頸。

九峰山實(shí)驗(yàn)室8寸硅基片上光源芯片晶圓

  芯片光互聯(lián) 突破芯片間大數(shù)據(jù)傳輸物理瓶頸

  人工智能大模型的開發(fā)和應(yīng)用、自動(dòng)駕駛、遠(yuǎn)程醫(yī)療、低延時(shí)遠(yuǎn)程通訊……未來(lái)世界對(duì)算力的需求在不斷增加。由于在單個(gè)芯片上增加晶體管密度這條路徑越來(lái)越難,于是業(yè)界開辟出新思路,將多個(gè)芯粒封裝在同一塊基板上,以提升晶體管數(shù)量。在單個(gè)封裝單元中芯粒越多,它們之間的互連就越多,數(shù)據(jù)傳輸距離也就越長(zhǎng),傳統(tǒng)的電互連技術(shù)迫切需要演進(jìn)升級(jí)。與電信號(hào)相比,光傳輸?shù)乃俣雀?、損耗更小、延遲更少,芯片間光互聯(lián)技術(shù)被認(rèn)為是推動(dòng)下一代信息技術(shù)革命的關(guān)鍵技術(shù)。

芯片間光互聯(lián)示意圖

  隨著人類對(duì)信息傳輸和處理的要求越來(lái)越高,“摩爾定律”驅(qū)使下的傳統(tǒng)微電子技術(shù)也已經(jīng)很難解決芯片在功耗、發(fā)熱、串?dāng)_等方面出現(xiàn)的問(wèn)題。而通過(guò)光電異質(zhì)集成技術(shù)可實(shí)現(xiàn)芯片間、芯片內(nèi)的光互連,將CMOS技術(shù)所具備的超大規(guī)模邏輯、超高精度制造的特性與光子技術(shù)超高速率、超低功耗的優(yōu)勢(shì)融合起來(lái),把原本分離器件眾多的光、電元件縮小集成到一個(gè)獨(dú)立微芯片中,實(shí)現(xiàn)高集成度、低成本、高速光傳輸。光電異質(zhì)集成技術(shù)可有效解決微電子芯片目前的技術(shù)瓶頸問(wèn)題,也是目前信息產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)超越摩爾技術(shù)路線的重要技術(shù)方向。

新聞來(lái)源:九峰山實(shí)驗(yàn)室

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