CUMEC硅基光電子MPW流片開放預訂

  ICC訊 2020年5月30日，聯(lián)合微電子中心(CUMEC)在重慶向全球發(fā)布“180nm成套硅光工藝PDK”，標志著聯(lián)合微電子中心具備硅基光電子領域全流程自主工藝制造能力，正式向全球提供硅光芯片流片服務。

  網(wǎng)站：https://service.cumec.cn/schedule

  1. 硅光MPW流片日程安排(MPW Schedule)

  CUMEC硅光第一批有源流片預定6月30日注冊截至，還有部分空位，預訂從速!

  2、工藝技術(Technology)

  CUMEC硅光工藝平臺基于8英寸(200mm) CMOS工藝，憑借先進的248nm DUV光刻技術，實現(xiàn)180nm工藝節(jié)點，目前CUMEC硅光工藝平臺提供的工藝技術包括：

  3、基礎器件(Baseline Block)

  4、流程

  簽署NDA

  登錄網(wǎng)站https://service.cumec.cn/下載CUMEC CSiP180Al NDA文件，并完成信息填寫和簽署。

  獲取PDK

  請將掃描件發(fā)送至service@cumec.cn

  工作人員將在3個工作日內完成NDA文件的審核和反饋，并發(fā)送PDK到注冊郵箱。

  注冊流片

  發(fā)郵件至service@cumec.cn注冊流片，我方工作人員會與您確認流片信息。

  CUMEC簡介：

  聯(lián)合微電子中心有限責任公司(簡稱CUMEC公司)是重慶市政府重磅打造的國家級國際化新型研發(fā)機構，于2018年10月在重慶注冊成立，首期投資超100億元。CUMEC公司針對國家微電子行業(yè)高端發(fā)展的需求，著力打造集技術、產品和工藝為一體的光電融合高端特色工藝，以硅基光電子、異質異構三維集成、鍺硅射頻等工藝技術和產品技術為核心，聚焦“后摩爾時代”世界集成電路發(fā)展主流趨勢，探索“超越摩爾”的行業(yè)發(fā)展模式，匯聚海內外一流集成電路人才，打造國際一流的集成電路研發(fā)中心。